В России могут создать 7 нм литограф. Хорошие новости приходят из Нижнего Новгорода. Мы неоднократно говорили о том, что невозможно собирать оборудование без электронной компонентной базы, а ЭКБ – без станков. Нет топора – нет бревна. Нет бревна – нет дома. Тут также. Сейчас азиатские коллеги добились перехода на новый техпроцесс, позволяющий выпускать чипы топологией 2 нм. Зеленоградский «Микрон» сейчас позволяет производить топологию 65 нм. Рядом, там же в Зеленограде, хотели создавать МНТЦ МИЭТ, который был нацелен на 28 нм. Но, все уперлось в поставку голландских фотолитографов и техпроцесс упал до уровня 350-130 нм. Институт прикладной физики РАН заявил, что ведут разработку установки литографии сверхмалого нанометража – 7 нм. К 2024 году обещают создать «альфа»-версию, еще через два года докрутить до «беты» а в 2026-28 выйти на полную мощность. Мало того, ученые утверждают, что наша установка в сравнении с голландской ASML в разы компактнее и точнее. Мощность при этом должна быть в 1,5-2 раза эффективнее. Звучит правдоподобно. Надеемся, у коллег из ИПФ РАН все получится, потому что собственный литограф – это основа нашего цифрового будущего.