МИЭТ совместно с ГК «Микрон» разработают оборудование для производства микросхем 28 нм Основной задачей исследователей станет проверка основных технологических решений в области безмасочной рентгеновской нанолитографии. На основе полученных результатов будет разработан технический облик будущей литографической установки, выработаны и обоснованы параметры ее ключевых узлов. ru-bezh.ru/gossekt…icheskim