НИИТМ рассказывает о Кластере ТМ 150
Это разработанная в АО НИИТМ кластерная установка магнетронного нанесения металлов с возможностью индивидуальной обработки пластин 150 - 200 мм по принципу "из кассеты в кассету" с 4-мя технологическими модулями магнетронного распыления с возможностью смещения пластин и формирования заданного магнитного поля с использованием двух внешних электромагнитных катушек.
Кластерная система позволяет конформно наносить в едином вакуумном цикле многослойные металлические пленки на высокоаспектные структуры, в том числе, для нанесения адгезионного, барьерного и медного слоев (TaN-Ta-Cu, Ti-TiN-Cu) при формировании медной разводки и сквозных контактов через кремниевые пластины (Through Silicon Via — TSV). Источники питания магнетронов мощностью до 10 кВт позволяют проводить распыление мишени в режимах постоянного и импульсного тока (HiPIMS).
Установка снабжена системой предварительной очистки пластин за счет термического обезгаживания и ВЧ ионно-плазменного травления.
Кластерная…