Литограф для производства чипов с превосходящей продукты ASML мощностью можно создать в России за 2-3 года — Академик Александр Сергеев — ТАСС, 21 ноября "В рамках НЦФМ коллаборация, которую мы хотим предложить, может разработать в течение двух-трех лет такой литограф", - сказал академик. "Только эта компания [ASML, Нидерланды] производит соответствующие рентгеновские литографы, мы предлагаем с помощью наших технологий разработать альтернативу, мы будем использовать для фокусировки этого излучения рентгеновские зеркала, которые разработаны в институте прикладной физики РАН и в Федеральном ядерном центре в Сарове, а также разработки института им. Седакова. Если соединить эти три разработки, то мы получим литографическую систему с мощностью, которая в разы превосходит те, что делает AMSL", — заявил академик Сергеев. Это выдержки из выступления научного руководителя Национального центра физики и математики (НЦФМ), академика Александр Сергеев в понедельник на сессии XII Международного форума "Атомэкспо" "Трансфер технологий из фундаментальной науки: перспективы в меняющемся мире", модератором которой выступил руководитель редакции "Наука" ТАСС Андрей Резниченко. Источник ТАСС. (https://t.me/sivolobov_expert)